NEONAIL Nagelpflege NagellackIntense Repair Nail Hardener

1. modellare le unghie con una lima di grana 100/180. Se l'unghia presenta delle creste, è necessario opacizzarla molto delicatamente con una lima per lucidatura o un buffer. La polvere di unghie così ottenuta viene rimossa con una spazzola.
2. pulire le unghie con un tessuto cellulare imbevuto di detergente.
3. applicare il primo strato di Intense Repair Nail Hardener sulla lamina ungueale pulita e asciutta e attendere circa 2 minuti che si asciughi.
4. applicare un altro strato e attendere circa 5 minuti fino all'asciugatura.
5. per rimuovere il prodotto dall'unghia, applicare una piccola quantità di remover su una compressa e strofinare delicatamente sull'unghia fino a rimuovere completamente lo smalto.
L'indurente per unghie Intense Repair si usa due volte alla settimana. Lo smalto deve essere rimosso a ogni applicazione.

Ethyl Acetate, Butyl Acetate, Nitrocellulose, Alcohol, Acetyl Tributyl Citrate, Adipic Acid/Neopentyl Glycol/Trimellitic Anhydride Copolymer, Triethyl Citrate, Acrylates Copolymer, Stearalkonium Bentonite, Silica, Benzotriazolyl Dodecyl P-Cresol, Sucrose Benzoate, Isopropyl Alcohol, Aqua, CI 77891, Dimethyl Oxobenzo Dioxasilane, Dimethicone, Tocopheryl Acetate, Tris(Tetramethylhydroxypiperidinol) Citrate, Helianthus Annuus Seed Oil, Dipropylene Glycol Dibenzoate, Panthenol, Acetyl Methionine, Ascorbyl Palmitate, Phosphoric Acid, Ethyl Linoleate, Ethyl Linolenate, Hydrolyzed Jojoba Protein, Aluminum Hydroxide, Ethyl Oleate, Triethoxycaprylylsilane, Calcium Pantothenate, Saccharomyces/Copper Ferment, Saccharomyces/Iron Ferment, Saccharomyces/Magnesium Ferment, Saccharomyces/Silicon Ferment, Saccharomyces/Zinc Ferment, Hydrolyzed Corn Protein, Hydrolyzed Soy Protein, Hydrolyzed Wheat Protein, Ethyl Palmitate, Ethyl Stearate, CI 15850, Leuconostoc/Radish Root Ferment Filtrate, Fucus Vesiculosus Extract, Phenoxyethanol, Pantolactone, Citric Acid, Mek, Potassium Sorbate, CI 60725.